当前位置:首页 > 文献互助 > 互助详情

Review of Material Properties of Oxide Semiconductor Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition for Next-Generation 3D Dynamic Random-Access Memory Devices复制

用户NryHlAVH_iBM 1个月前 85 10 已完结

1. 系统已在2026-02-09 22:38:52对应助文件进行删除

2. 如有需要请重新发布求助信息

注: 所有应助的资源仅供学习交流使用, 不得违反相关法律法规

互助时间线

2026-02-07 22:38:45 [完结求助]

系统完结了求助, 已自动确认了用户Kt1HdZ2FQNED应助的文件是正确的, 求助状态变成 已完结

2026-02-02 22:38:52 [上传文件]

用户Kt1HdZ2FQNED上传了文件(pdf 6.83 MB), 求助状态变成 待确认

2026-02-02 22:38:45 [发起求助]