Enhancing temperature stability of ALD-deposited IGZO thin-film transistor by optimizing composition ratio
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DOI: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2025.179753
文献链接: https://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/S0925838825013118
其他信息:
出版社: Elsevier BV
作者: Jianting Wu; Huajian Zheng; Min Guo; Yi Huang; Xiaoci Liang; Qian Wu; Chuan Liu

