Study of the inductively coupled plasma assisted DC magnetron sputtering (ICPDMS) during ITO deposition
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DOI: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2009.02.032
文献链接: https://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/S0040609009002600
其他信息:
出版社: Elsevier BV
作者: Ie Hong Yang; Youjong Lee; Jin Nyeung Jang; MunPyo Hong

